专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
这项技术突破的核心在于极紫外辐射光源技术，这玩意儿就像一个超级精密的雕刻刀，能够在小小的硅片上刻出极其细微的电路图案，这项技术可不是闹着玩的，它是目前全球最先进光刻机的核心部件，以前，这项技术被少数国家垄断，咱们只能眼巴巴看着人家用先进设备生产芯片，现在，咱们也掌握了这项技术，这意味着什么?
光刻机特别关键。要说中国在芯片上突破，光刻机是必须搞定的。但问题是，咱现在还做不到。中科大一个高层都说了，做光刻机太难，短时间内搞不定。听了挺沮丧的，特别是现在中国芯片技术被卡住了。光刻机其实就是做芯片的“心脏”，没它什么都做不了。
