在芯片生产的过程中,光刻机和刻蚀机这两种设备很重要,前者是用来刻画电路的,而后者则是将刻画后的不要的硅晶蚀掉。而目前在国内,光刻机还停留在90nm阶段,而全球最强的ASML已经进入了5nm阶段,中间的差距至少有十年以上,但我国的刻蚀机却处于超高端水平。
长期以来先进的光刻机一直被荷兰的ASML公司垄断,尤其是今年美国对华为实施多层次禁令后,使得光刻机热度一直未减,而蚀刻机似乎没有光刻机那么受到关注,但是这两者又好像两兄弟一样总是成对出现,给读者感觉它们似乎是同一种产品,技术难度相同,傻傻分不清什么是光刻机,什么是蚀刻机。
半导体设备市场细分品类众多,目前本土半导体设备产业仍处于成长早期,其中刻蚀机作为刻蚀工艺的关键设备,占比晶圆制造设备最高22%的市场份额,略高于光刻机,主要原因是刻蚀机在成熟制程应用更广,虽然精度单机价格相较高端光刻机,但整体规模仍高于光刻机,是晶圆代工中最重要的生产设备之一。
文 | 华商韬略 吴锐 人们都知道,我国芯片生产被卡脖子,主要卡在光刻机。但其实很长一段时间,还有一个重要设备也在束缚中国芯片生产,它就是刻蚀机。 在光刻机领域,中国始终面临着困境。而在刻蚀机领域,一个人的出现,让这种束缚成为了历史。