在芯片生产的过程中,光刻机和刻蚀机这两种设备很重要,前者是用来刻画电路的,而后者则是将刻画后的不要的硅晶蚀掉。而目前在国内,光刻机还停留在90nm阶段,而全球最强的ASML已经进入了5nm阶段,中间的差距至少有十年以上,但我国的刻蚀机却处于超高端水平。
半导体设备市场细分品类众多,目前本土半导体设备产业仍处于成长早期,其中刻蚀机作为刻蚀工艺的关键设备,占比晶圆制造设备最高22%的市场份额,略高于光刻机,主要原因是刻蚀机在成熟制程应用更广,虽然精度单机价格相较高端光刻机,但整体规模仍高于光刻机,是晶圆代工中最重要的生产设备之一。