全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
而如今华为Mate70的消息越来越多，华为 Mate 70 Pro 或将首发满血版的麒麟9100 旗舰 5G 芯片，网传该芯片性能提升 35% 左右，功耗下降 25% 左右，基本可以媲美骁龙8 Gen2。
导读：工信部官宣DUV光刻机，其套刻精度可以达到小于等于八纳米的程度。话说这幸福来的也太快了一点。从2017年开始，美国就开始对中国的芯片领域进行围追堵截。前不久还想拉拢日本和荷兰，对中国实施更加严格的管控，中国的光刻机就出世了。这时间卡的也太实在了，都不给留点余地。
2024年12月30日，哈尔滨工业大学传来重磅消息：成功研发出波长为13.5纳米的极紫外光源。这个消息一出，可把咱们的芯片圈给炸翻了天！说实话，看到这个消息的第一反应是：真的假的？毕竟这可是光刻机的核心技术啊！
光刻机在半导体行业中的地位，可以说是举足轻重的，一台晶圆生产线上配有一台光刻机，在完成了晶圆的准备工作后，就交由光刻机对晶圆进行曝光，此时光刻机照射在晶圆上的光刻胶就会在曝光后产生化学反应，然后进行显影。
