哈工大研制光刻机是真的吗

资讯

我哈威武，哈工大官宣搞定13.5nm极紫外光源，EUV光刻机迎来曙光
制造芯片需要光刻机，芯片制程越先进，对光刻机性能要求越高，其光刻机的制造难度也就越高。它有EUV与DUV之分，其中EUV光刻机制造技术要求很高，是我们的技术短板。
啊海谈教育
543评论

视频

加载更多

问答

哈工大“突破”国产7nm光刻机关键技术,现在该“着急”的是欧美？
头条问答