全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
近年来，特别是2019年以来，荷兰政府等西方国家开始加强对向中国出口高端光刻机的限制。2021年1月，荷兰政府要求ASML停止向中国出口其最新的DUV光刻机。2024年，ASML被进一步限制，不得向中国发运NXT:2000i及以上分辨率的浸润式DUV光刻机。
2024年，当中国宣布在DUV光刻机领域取得突破性进展，成功研发出28纳米制程的光刻机时，整个科技界都为之震动，这项被誉为“现代工业皇冠上的明珠”的技术，一直以来都被西方国家牢牢掌握，成为制约中国芯片产业发展的一道难以逾越的鸿沟，如今，中国终于迈出了自主研发光刻机的关键一步，打破了西方的技术封锁，这对于中国乃至全球的科技格局都将产生深远的影响。
