哈工大极紫外光

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我哈威武，哈工大官宣搞定13.5nm极紫外光源，EUV光刻机迎来曙光
制造芯片需要光刻机，芯片制程越先进，对光刻机性能要求越高，其光刻机的制造难度也就越高。它有EUV与DUV之分，其中EUV光刻机制造技术要求很高，是我们的技术短板。
啊海谈教育
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祝贺！哈工大两项目获黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖
近日，2024黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛决赛举行。
哈尔滨日报
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哈工大“突破”国产7nm光刻机关键技术,现在该“着急”的是欧美？
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