2024年,当中国宣布在DUV光刻机领域取得突破性进展,成功研发出28纳米制程的光刻机时,整个科技界都为之震动,这项被誉为“现代工业皇冠上的明珠”的技术,一直以来都被西方国家牢牢掌握,成为制约中国芯片产业发展的一道难以逾越的鸿沟,如今,中国终于迈出了自主研发光刻机的关键一步,打破了西方的技术封锁,这对于中国乃至全球的科技格局都将产生深远的影响。