2024年，当中国宣布在DUV光刻机领域取得突破性进展，成功研发出28纳米制程的光刻机时，整个科技界都为之震动，这项被誉为“现代工业皇冠上的明珠”的技术，一直以来都被西方国家牢牢掌握，成为制约中国芯片产业发展的一道难以逾越的鸿沟，如今，中国终于迈出了自主研发光刻机的关键一步，打破了西方的技术封锁，这对于中国乃至全球的科技格局都将产生深远的影响。
