哈工大13.5nm极紫外光源

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哈工大搞定13.5纳米极紫外光源！中国突破光刻机封锁，还有多远？
哈工大已经官宣，成功搞定了13.5纳米极紫外光源。很多人不理解，为什么荷兰阿斯麦要服从美国的封锁令?
一林简史
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光刻机心脏病有救了？哈工大13.5nm极紫外光源问世，未来可期！
另一方面，光刻机产业的门槛极高，不少半导体领域的专家都认为中国在光刻机技术上难以实现突破，就算取得突破，光刻机的稳定性、良率也很难得到保障。
墨史踏风客
13.5纳米极紫外光源：哈工大的突破与中芯国际的未来
近年来，随着科技的飞速发展，半导体产业的竞争愈发激烈，而光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其技术水平直接影响到芯片的生产效率和成品率。
细嗅蔷薇
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最近，哈工大的曙光让ASML静默，中芯国际等一台国产EUV亮相
虽然美国、ASML和台积电保持沉默，但新加坡投资专家王国辉在媒体上对中芯国际表示看好，认为其具备与全球芯片巨头竞争的潜力。
谈古论今
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外媒报道：EUV光刻机事件反转，荷兰决定隐藏ASML对华销售情况
近年来，半导体领域格局风云变幻，中国在EUV光刻机技术上的突破与荷兰对ASML对华销售政策的调整，成为全球瞩目的焦点。
老叶热评
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欧美芯片企业严重警告：想摧毁中国芯片业，恐被中国低价芯片摧毁
中低端芯片强势崛起，只是我国芯片发展的第一步，我国目标是逐步拓展高端市场，自研光刻机，最近，我国中低端芯片突然宣布降价，这对世界芯片格局将会产生怎样的影响?
人猿宇宙
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哈工大“突破”国产7nm光刻机关键技术,现在该“着急”的是欧美？
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