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众所周知，在没有进入浸润式光刻机技术之前，当时光刻机技术是采用193nm波长的光源，生产普通的ArF光刻机，最多支持到65nm工艺的芯片。当时尼康、佳能才是光刻机老大，ASML只是一家小企业，完全不具备竞争力。
