上海微电子装备股份有限公司作为国内光刻机领域的领军企业，在国际市场上的竞争力正逐步增强。根据最新的信息，上海微电子的8纳米氟化氩光刻机在《首台重大技术装备推广应用指导目录》中被提及，其光源为193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
众所周知，芯片设计的研发离不开光刻机，尤其是先进制程工艺的芯片，但是全球先进光刻机市场中ASML一家独大，此前中芯国际也斥巨资购买一台先进的光刻机，然而如今因为美国的原因，ASML光刻机无法顺利进入我国，这也给我国7nm以及更先进制程工艺芯片的发展带来更加严峻的挑战，要知道我国目
自从美国制裁，中国光刻机进口受到限制，先进的光刻机不卖给中国，那么，我们国家只能靠自己研发，一步一步的摸索，生产自己的光刻机，那么，国内光刻机最具实力的就是上海微电子，目前还没有上市，一旦上市，他的市值将达到3000亿，大家很期待，目前国内光刻机市场的竞争格局呈现以下特点:1. 上海微电子占据主导地位:- 技术优势与产品覆盖:上海微电子是国内光刻机制造的领军企业，出货量占国内市场份额超过80%。
在去年9月份，上海微电子（SMEE）举行了新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机，并表示与多家客户达成销售协议。时隔数月后，上海证券报/中国证券网报道称，上海微电子已于昨天向客户交付国内首台2.5D/3D先进封装光刻机，代表了行业同类产品的最高水平。
【上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公开】财联社11月28日电，上海微电子装备（集团）股份有限公司今日公开了其最新的光刻机相关专利。据天眼查显示，上海微电子公开的专利名为“投影物镜光学系统及光刻机”。
12月6日消息，台湾《经济日报》和联合新闻网近日同时发布报道称，11月26日在青岛正式投产的富士康集团首座晶圆级封测厂，引进多达46台上海微电子生产的28nm光刻机，并同时称这意味着大陆生产的光刻机实现从90nm到28nm的跨越。根据上海微电子官网资料显示，其主要生产 SSX600 和 SSX500 两个系列的光刻机。
近日，根据上海微电子装备集团发布的最新消息，该集团已正式推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据悉，新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。
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