专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
还记得几年前，“缺芯少魂”这四个字就像一块巨石，压在中国科技界的心头，挥之不去，那时候，从手机、电脑到汽车，几乎所有高科技产品都依赖进口芯片，我们就像被卡住了脖子，难受却又无可奈何，而这一切的根源，就藏在那方寸之间，一枚小小的芯片里。
如下图所示，这是光刻机类型，对应的芯片工艺。至于5nm芯片之后，那就必须使用EUV这种极紫外线光刻机了，用DUV光刻机已经制造不出来了，因为DUV光刻机的光线波长经水折射也也毕竟有134nm，波长太长，分辨率不够。
现在的商用半导体领域，有可能连未来微观领域的研究人员都没有料到的新技术，都在寻找着自己的实践道路。从材料的使用研究，到元器件的研究，再到芯片生产的研究，每一个领域都被专业人士们深入的钻研着，为了这个科研领域做出贡献。
