尤其是EUV高端光刻机获取受阻后,让我国芯片制造工艺止步于7nm以上,要想往下突破最多也只能达到5nm水平,但良率和产能均达不到理想范围,而现在市面上能够大规模量产的芯片制造工艺已经达到了3nm,甚至是2nm。