哈工大13.5nm光源

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光刻机心脏病有救了？哈工大13.5nm极紫外光源问世，未来可期！
另一方面，光刻机产业的门槛极高，不少半导体领域的专家都认为中国在光刻机技术上难以实现突破，就算取得突破，光刻机的稳定性、良率也很难得到保障。
墨史踏风客
13.5纳米极紫外光源：哈工大的突破与中芯国际的未来
近年来，随着科技的飞速发展，半导体产业的竞争愈发激烈，而光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其技术水平直接影响到芯片的生产效率和成品率。
细嗅蔷薇
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EUV光刻机事件反转？哈工大突破极紫外光源技术引外媒惊呼
近日，一则关于中国哈尔滨工业大学在极紫外光刻机光源技术方面取得重大突破的消息，不仅在国内科技界掀起了波澜，也让众多外媒纷纷侧目，甚至有人断言，EUV光刻机事件或许即将迎来反转。
离垢随笔
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哈工大EUV光刻机突破!新加坡学者:只要成功，芯片战就会结束!
国产EUV光刻机取得重大突破，哈工大官宣表明已经成功解决13.5纳米极紫外光源的技术。距离哈工大攻克28纳米极紫外光源技术还没过去多久，12月30日，13.5纳米的极紫外光源就已经宣告研制成功了。
谱大酱
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哈工大的曙光ASML沉默，中芯国际等一台国产EUV
哈尔滨工业大学在极紫外光光刻机核心技术上的重大突破，宛如一道破晓的曙光，照亮了中国半导体产业前行的道路，也让一直处于垄断地位的ASML陷入了沉默。
安逸饭团
哈工大国防之光，国外都瑟瑟发抖的存在
近日，哈工大航天学院赵永蓬教授带领的团队，凭借“放电等离子体极紫外光刻光源”项目，成功攻克了13.5纳米极紫外光源技术，在黑龙江省高校与科研院所职工科技创新成果转化大赛中荣获一等奖，这一重大突破犹如一声惊雷，震撼了全球半导体领域。
眼里充满希望

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哈工大“突破”国产7nm光刻机关键技术,现在该“着急”的是欧美？
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