专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
近日，东方大国的一项科技成果引起了全球的热议，那就是成功申请了7纳米光刻机的专利。众所周知，光刻机是半导体制造过程中至关重要的一环，而7纳米光刻机更是当前国际上最先进的光刻设备之一，其技术难度和制造成本都非常高昂，掌握这一技术的国家无疑在全球科技竞争中占据了重要的战略地位。
一直以来，光刻机是许多国人非常关注的话题，在中国关于光刻机的消息更是层出不穷，不管是与此相关的清华0.1nm技术也好，还是国内曝光的光刻厂技术也罢，都是咱们普通人无法理解的技术，可是如今好消息来了，中国光刻机不仅取得重大突破，而且此次技术还通俗易懂。
其实并不然，中国便有一个光刻机巨头，如今已经坐拥2400项专利，垄断国内80%的光刻机市场份额。与此同时，在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场，上海微电子还占据了80%的市场份额，实力绝对毋庸置疑。
