台积电和三星当下以第一代EUV光刻机生产3纳米都遇到了麻烦。三星激进地采用GAA技术，以第一代EUV光刻机生产3纳米，性能提升幅度未知，不过良率低至一到两成，这也导致三星的3纳米至今不知客户是谁，业界认为没有客户采用，因为3纳米的成本本来就高，低至两成以下的良率更导致成本高到天上去，没有芯片企业能够承受。
据悉，每台新机器的成本超过3亿美元，可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。阿斯麦公司在社交平台X上发布了一张照片，照片中可以看到，光刻机的一部分被放在一个保护箱中，箱身绑着一圈红丝带，正准备从其位于荷兰埃因霍温的总部发货。
ASML公布一季度的业绩，业绩显示营收同比下滑21.6%，净利润更是暴跌37.4%，营收环比更是从2023年Q4的91.9亿欧元暴跌近三分之二，导致如此结果就在于ASML无法对中国销售较为先进的DUV光刻机。
荷兰把全世界最先进的2纳米光刻机率先交付给了美国公司Intel。2纳米光科技交付现场近期，声称耗时10年研制，每台售价3亿美元的2纳米光刻机，正式交付给了美国Intel公司，意味着美国未来将可以生产出体积更小，性能更优，运营更快的高端芯片。
【ASML：将获台积电“大量”2纳米相关订单 年内向台积电和英特尔交付High-NA EUV光刻机】财联社6月6日电，据媒体报道，ASML首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen）称，将于第二、三季度开始获得台积电“大量”（significant）2纳米相关订单。
据日经亚洲12月19日报道，Rapidus成为日本首家获得极紫外（EUV）光刻设备的半导体公司，已经开始在位于北海道正在建设的“IIM-1”芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。12月14日，荷兰供应商ASML生产的极紫外光刻系统（EUV）的第一批部件抵达机场。
今天说一个好消息，中国的光刻机已经生产出来了。中国工信部的目录中公布了深蓝外光刻机，它加工的芯片尺寸小于等于八纳米。这尺寸就表明它应是最高端的光刻机了。其研究出来的速度超出所有人意料，也超出我意料。我原预判还得两三年，没想到现在就已成功。
