科技圈仿佛被投入了一颗震撼弹，爆炸中心正是中国光刻机技术的突破，消息一出，全球网友都炸开了锅，其中尤为活跃的，竟是来自印度的网友们，他们有的惊叹，有的焦虑，有的甚至开始自我调侃，仿佛这台光刻机就摆在他们家门口，比我们这些亲身经历的中国人还要激动。
近日，东方大国的一项科技成果引起了全球的热议，那就是成功申请了7纳米光刻机的专利。众所周知，光刻机是半导体制造过程中至关重要的一环，而7纳米光刻机更是当前国际上最先进的光刻设备之一，其技术难度和制造成本都非常高昂，掌握这一技术的国家无疑在全球科技竞争中占据了重要的战略地位。
这项技术突破的核心在于极紫外辐射光源技术，这玩意儿就像一个超级精密的雕刻刀，能够在小小的硅片上刻出极其细微的电路图案，这项技术可不是闹着玩的，它是目前全球最先进光刻机的核心部件，以前，这项技术被少数国家垄断，咱们只能眼巴巴看着人家用先进设备生产芯片，现在，咱们也掌握了这项技术，这意味着什么?
在全球科技竞争日益激烈的背景下，半导体产业成为了各国争夺的焦点，近期，荷兰宣布将扩大光刻机的出口管制，这一决定不仅引发了国际社会的广泛关注，也在中美科技博弈的背景下掀起了一场新的波澜，荷兰的这一举动，是否真的能够阻止中国在芯片制造领域的迅速崛起?
专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
