各位小伙伴都知道，现在在国际的舞台上有越来越多中国制造的身影，再加上我们的国家在经济上不断发展之后，我们的国家对于各个领域有了更多的投入，加大了对这些领域的财力、物力和人力的投入，这些原因使得我们的国家在某些领域有了很大的飞跃。
最近，阿斯麦的CEO又开始放炮了。这位荷兰大佬居然说中国的光刻机技术落后他们10到15年，还说没有EUV光刻机，中国几乎不可能制造出3到5nm芯片。这话听着怎么这么耳熟呢？好像去年他还说中国连7nm以下的芯片都造不出来吧？说起阿斯麦，那可是光刻机界的"老大哥"。
专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
近日，东方大国的一项科技成果引起了全球的热议，那就是成功申请了7纳米光刻机的专利。众所周知，光刻机是半导体制造过程中至关重要的一环，而7纳米光刻机更是当前国际上最先进的光刻设备之一，其技术难度和制造成本都非常高昂，掌握这一技术的国家无疑在全球科技竞争中占据了重要的战略地位。
