专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
近日，东方大国的一项科技成果引起了全球的热议，那就是成功申请了7纳米光刻机的专利。众所周知，光刻机是半导体制造过程中至关重要的一环，而7纳米光刻机更是当前国际上最先进的光刻设备之一，其技术难度和制造成本都非常高昂，掌握这一技术的国家无疑在全球科技竞争中占据了重要的战略地位。
仅仅有光刻机是不行的，还需要摸索一套与之对应的成熟流程工艺。可我们现在连高端光刻机都没有……😔撇开一切不说，让这样的设备，全中国唯一的一台7nm ASML EUV光刻机放在银行的仓库里吃灰，是不是太可惜了？是不是还不如拿出来进行芯片生产技术的试验？是没有用吗？
