专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
近日，东方大国的一项科技成果引起了全球的热议，那就是成功申请了7纳米光刻机的专利。众所周知，光刻机是半导体制造过程中至关重要的一环，而7纳米光刻机更是当前国际上最先进的光刻设备之一，其技术难度和制造成本都非常高昂，掌握这一技术的国家无疑在全球科技竞争中占据了重要的战略地位。
其实并不然，中国便有一个光刻机巨头，如今已经坐拥2400项专利，垄断国内80%的光刻机市场份额。与此同时，在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场，上海微电子还占据了80%的市场份额，实力绝对毋庸置疑。
日前有一位20万+粉丝的专家用微头条谈到中国自主研发光刻机时发表了一段这样的言论：光刻机之类有些货会说专利，那它得到中国来申请过专利，没有申请专利，我不到国外卖，只在中国用，什么专利能有影响？专家言论截图这位专家是在做早饭时想到什么就说什么吗？
一直以来，光刻机是许多国人非常关注的话题，在中国关于光刻机的消息更是层出不穷，不管是与此相关的清华0.1nm技术也好，还是国内曝光的光刻厂技术也罢，都是咱们普通人无法理解的技术，可是如今好消息来了，中国光刻机不仅取得重大突破，而且此次技术还通俗易懂。
仅仅有光刻机是不行的，还需要摸索一套与之对应的成熟流程工艺。可我们现在连高端光刻机都没有……😔撇开一切不说，让这样的设备，全中国唯一的一台7nm ASML EUV光刻机放在银行的仓库里吃灰，是不是太可惜了？是不是还不如拿出来进行芯片生产技术的试验？是没有用吗？
