在芯片制造行业，有一种设备和光刻机同样重要，那就是薄膜沉积设备。近年来，沈阳拓荆科技有限公司(以下简称拓荆科技)凭借PECVD、ALD等一系列先进的半导体薄膜沉积设备，成为国内该领域的领头羊，引领行业快速发展。
本报记者 李勇“公司的反应腔产品，2024年上半年出货量超过430个，截至2024年6月底，出货量已累计超过1940个，预计今年全年出货量将超1000个，有望创下历史新高。”拓荆科技相关负责人在接受《证券日报》记者采访时表示。
本报记者 李 勇拓荆科技11月25日召开2024年第三季度业绩说明会，公司董事长吕光泉在与投资者进行交流时表示，公司一直专注于高端专用半导体设备研发与产业化，始终坚持自主创新，为客户提供具有竞争力的产品，并在研发团队、技术积累、产品平台、市场拓展和售后服务等方面形成竞争优势。
近年来，沈阳国资国企深入学习贯彻习近平总书记关于国有企业改革发展和党的建设的重要论述、特别是在新时代推动东北全面振兴座谈会上的重要讲话精神，贯彻落实市委市政府全面振兴新突破三年行动决策部署，攻坚产权、治理、组织、产业“四个结构”改革，全面完成国企改革三年行动，深入推进国企改革深化提升行动，积极打造“活力国企”，取得一系列积极成效。
