在阅读此文之前，麻烦您点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持。文|科技新知分享家编辑|科技新知分享家导语在当今科技迅猛发展的时代，芯片作为信息技术的核心，承载着我们对智能化生活的无限期望。
谁都知道， EUV光刻机是7 nm以下芯片的必备材料，目前只有 ASML一家有能力生产，而且还不允许销售到中国。因此，中国想要达到7 nm以下的制程，是一件非常困难的事情，除非中国有能力生产 EUV光刻机，否则根本不可能走上光刻的道路。所以很多人都觉得，中国不是最擅长模仿的吗？
中国光刻机在近年来取得了显著的进展，2022年中国光刻机市场规模为147.82亿元，2023年中国光刻机产量达124台，市场规模已突破160.87亿元。市场现状需求与供给：国内对光刻机的需求大于国产供给，2022年产量为95台，而需求量约为652台。
我国高精尖企业华卓精科在2021年9月发布的公告中就提到:“公司 DWS 系列光刻机双工件台可实现优于 4.5nm 的运动平均偏差，已于 2020 年 4 月和 2021 年 1 月、4 月、6 月分别 向上海微电子发货 1 台 DWS 双工件台，累计发货 4 台 DWS 双工件台;
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
