这对于前身是一个电子信息工程的博士来说并不是什么困难的问题，也不知道是不是巧合。这个平行时空的自己竟然学的也是电子信息工程专业，这也就让刘聪这专科两年如鱼得水，奖学金拿到手软，学院的老师们每次有什么好的比赛，都让刘聪去参加。
说到光刻机早期中国只是在90nm上有突破，近些年中国利用紫光光源成功突破了22nm的技术壁垒，发现中国已经在这方面有了突破于是荷兰的ASML也开始答应给中国提供设备，即使同意供给肯定不是最先进的，同时也是为了抑制中国光刻机的发展。
ASML生产出的光刻机如同一个“便携打印机”，生产出来，销售各国，帮助“打印”各种制程的芯片，而最高工艺的EUV光刻机就能打印7nm以下的芯片，让晶体管的栅长保证在几纳米工艺下，依然保持高良率而这EUV光刻机目前仅ASML可以生产。
书接上回~~利用提拉法制造的硅棒可以决定晶圆的尺寸。要大晶圆就拉粗点，短点，要小晶圆就拉细点长点……（好像有点不太对的感觉……是什么？！！）硅棒直径和提拉速度可以利用溶液、硅棒与辐射热量三者之间的热平衡进行估算。举个栗子，12英寸的晶圆硅棒有1.5米长，就需要拉8小时。
现在网上关于这方面的争议有很多，不过，首先要说明的是，如果疑问我们能否制造出属于自己的光刻机，答案是肯定的，不仅如此，我们已经有了属于自己的光刻机，而且可以毫不夸张的说，我们在光刻机的制造方面，也是处于世界前列的。
