近年来，特别是2019年以来，荷兰政府等西方国家开始加强对向中国出口高端光刻机的限制。2021年1月，荷兰政府要求ASML停止向中国出口其最新的DUV光刻机。2024年，ASML被进一步限制，不得向中国发运NXT:2000i及以上分辨率的浸润式DUV光刻机。
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
光刻机在中美贸易战开始之前，尤其是美国开始对华为芯片制裁伊始才真正在网络上频繁刷屏，而华为制造的产品那么多，真正卡脖子严重的当属手机终端，那些体积相对较大网络设备，例如企业用的基站、交换机、路由器、光端机、服务器等用的芯片制成工艺要求较低，大部分国产都能实现，且大部分消费者不知道这些设备。
