【12月6日讯】相信大家都知道，在2020年7月份的时候，很多网友们都曾听到过“新型的国产5nm超高精度激光光刻加工技术”取得了新突破的报道，事情起因是因为中科院对外发布了一篇《超分辨率激光光刻技术制备5纳米间隙电极和阵列》，在这篇文章中介绍了中科院团队研发了一种新型的5nm超高
今年7月，中科院网站刊登了一则国产5nm光刻机获突破的文章，讲述了新型5nm超高精度激光光刻加工方法。此消息一出，立即引发了广大网友的热烈讨论，因为那个时候正是华为遭遇美国技术封锁、寻求出路的时刻，这一突破让国人看到了希望。
随着第三次科技革命的到来，芯片成为工业制造最高水平的代表，半导体领域成为各国竞争最为激烈的存在。就目前而言，美国占据着国际半导体行业榜首的存在，也正因为此，美国从芯片制造方面出手，想要置华为与死地，从而遏制中国在5G、人工智能等高端领域的发展。
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近期，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作，在Nano Letters上发表了题为“5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography”的研究论文，报道了一种他们开发的新型5 nm超高精度激光光刻加工方法。
发布会之所以这么劲爆，恐怕人们最关注的是国产5纳米光刻机到底是谁生产的。坊间传说很多，主流传闻是华为、哈工大、长春光机所、中科院、上海微电子厂参与了研发，这些传闻应当是真实的，没有不透风的墙，机密不敢泄，打着擦边球透透参与研发还是没问题的。
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