半导体产业是一个极其复杂且庞大的产业链，光刻机很重要，单晶硅也很重要，光刻胶同样很重要。日本的光刻胶技术很强，我国多年来也一直很依赖日本的光刻胶进口，但由于日本是美国的铁杆小弟，所以我国光刻胶正面临卡脖子的风险。
最近国内光刻胶领域可谓是好事连连。市场方面，南大光电、彤程新材实现了ArF光刻胶的量产，不少相关公司股价也是接连上涨。技术上，华中科技大学与湖北九峰山实验室共同研究的新型光刻胶技术成功为我国EUV光刻胶的开发奠定了技术基础，这也间接推动了我国芯片产业的发展。
《科创板日报》11月19日讯（记者 吴旭光）今日（11月19日）晚间，久日新材发布公告，该公司在控股孙公司徐州大晶新材料科技集团有限公司投资建设的“徐州大晶新材料科技集团有限公司（下称“大晶新材”）年产4500吨光刻胶项目”现已完成建设，试生产方案业经专家组评审通过，于11月19
光刻胶是集成电路晶圆生产的重要物料，国产替代备受关注。6月20日，在光刻胶领域取得进展的南大光电(300346)获得数十家机构的联合调研。南大光电在调研记录中称，公司在光刻胶技术研发方面，始终坚持从原材料到产品的完全自主化。
