科技浩瀚海洋中，每一次技术突破都像是一颗璀璨珍珠，让人们为之惊叹，我国工信部官方宣布，国内科研团队自主研发高端光刻机技术已经取得重大进展，这不仅是我国科技实力一个重要展示，更是推动半导体产业自主可控关键一步。
近年来，特别是2019年以来，荷兰政府等西方国家开始加强对向中国出口高端光刻机的限制。2021年1月，荷兰政府要求ASML停止向中国出口其最新的DUV光刻机。2024年，ASML被进一步限制，不得向中国发运NXT:2000i及以上分辨率的浸润式DUV光刻机。
表面等离子体 光刻的原理是当一束光射向介质 – 金属表面时， 金属表面的自由电子发生运动并产生表面感应电荷. 这些感应电荷在外加场的驱动下在表面不断振荡， 产生特殊的电磁波 ， 随着离开物质表面距离的增大迅速衰减. 表面等离子体波的波长被极大地压缩，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数. 因此， 利用表面等离子体波进行光刻时， 在极短的距离内 不受传统衍射极限的限制.
全世界不是中国，美国都做不出来，中国都没做出来，不可能永远做不出来，它是一个国家的整体实验的表现。整体实验比较差一百年、差五十年，因为它设计的很多很多的学科，很多很多的基础性的东西。美国打压我们要自主，并不意味着中国未来两年、三年做出的无纳米的光刻机的这件事情非常难。
我国投入巨资研发制造高端光刻机，会不会在接近荷兰ASML高端光刻机水平之时，美国又允许荷兰降价向中国销售了，我们会不买ASML的又好又便宜的产品吗？我们制造的高端光刻机没有市场，投入的资金岂不是打了水漂？这么多的资金做了空投，会不会影响我国对其他高科技领域的投入？
我国被美国限制进口ASML高端EUV光刻机，我们能不能不采用极紫外光源策略，采用其他材料或脑洞大开的超时代方案来弯道超车节省研制时间。类似于数码相机取代胶片相机这样的换代技术，喷气式发动机取代螺旋桨。我们普通人研究不了光刻机，但我们可以一起开脑洞做掉落牛顿头上的那个苹果！
