光刻胶是集成电路晶圆生产的重要物料，国产替代备受关注。6月20日，在光刻胶领域取得进展的南大光电(300346)获得数十家机构的联合调研。南大光电在调研记录中称，公司在光刻胶技术研发方面，始终坚持从原材料到产品的完全自主化。
最近国内光刻胶领域可谓是好事连连。市场方面，南大光电、彤程新材实现了ArF光刻胶的量产，不少相关公司股价也是接连上涨。技术上，华中科技大学与湖北九峰山实验室共同研究的新型光刻胶技术成功为我国EUV光刻胶的开发奠定了技术基础，这也间接推动了我国芯片产业的发展。
光刻胶是光刻机上游原料关键组成部分，对每一层图形的精确转移起着关键作用。作为光刻成像过程中的核心承载介质，光刻胶运用光化学反应原理，将光刻系统中经过复杂衍射与滤波处理后的光信息，高效地转化为化学能量，从而精准实现掩模图形的复制与传递。
（□ 周莹 连科）在一片只有300毫米的单晶硅晶圆上“造房子”是一种什么样的挑战？是一场大国材料研发和产业化水平的较量。昨日，笔者在邃铸科技获悉，该企业实现了聚酰亚胺光刻胶技术的国产化，更为难得的是企业95%的原料来自国内，实现了企业研发、生产加工等环节的自主可控。
