13.5纳米极紫外光源

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13.5纳米极紫外光源：哈工大的突破与中芯国际的未来
近年来，随着科技的飞速发展，半导体产业的竞争愈发激烈，而光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其技术水平直接影响到芯片的生产效率和成品率。
细嗅蔷薇
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EUV光刻机事件反转？哈工大突破极紫外光源技术引外媒惊呼
近日，一则关于中国哈尔滨工业大学在极紫外光刻机光源技术方面取得重大突破的消息，不仅在国内科技界掀起了波澜，也让众多外媒纷纷侧目，甚至有人断言，EUV光刻机事件或许即将迎来反转。
离垢随笔
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国内突破13.5nm技术，台积电张忠谋被打脸了
随着国内突破13.5nm极紫外光源技术，让我们看到了中国半导体产业界的蓬勃发展，也让张忠谋面临着被打脸的局面。
互联鱼
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中国芯片崛起的关键一步？哈工大突破真能打破全球格局吗？
哈工大搞出了个大新闻，自主研发了13.5纳米极紫外光源技术!这下，咱们是不是离彻底解决芯片难题更近一步了?
80s兔闻录
外媒报道：EUV光刻机事件反转，荷兰决定隐藏ASML对华销售情况
近年来，半导体领域格局风云变幻，中国在EUV光刻机技术上的突破与荷兰对ASML对华销售政策的调整，成为全球瞩目的焦点。
老叶热评
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西方技术封锁下的突破：中国半导体产业的自主崛起之路
面对西方严密的技术封锁与设备禁运，中国半导体产业以自主创新为矛，以产业链协同为盾，在逆境中实现了一系列关键技术突破，为“中国芯”的崛起写下了浓墨重彩的篇章。
北山青
荷兰决定不再公开ASML对华销售数据！这是荷兰的无奈与无声的抗议
美国对我国的技术打压政策愈演愈烈，尤其是在半导体领域，美国一再要求盟友限制对中国的技术出口。荷兰在美国政府的反复施压之下，不得已出台了所谓具有军事意义的“两用”商品清单，并重点关注ASML的深紫外光刻机先进设备出口必须申请许可，而极紫外光刻机更早之前已被列入了美国的管制。
务本堂杂谈
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哈工大EUV光刻机突破!新加坡学者:只要成功，芯片战就会结束!
国产EUV光刻机取得重大突破，哈工大官宣表明已经成功解决13.5纳米极紫外光源的技术。距离哈工大攻克28纳米极紫外光源技术还没过去多久，12月30日，13.5纳米的极紫外光源就已经宣告研制成功了。
谱大酱
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