13.5纳米极紫外光源

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光刻机心脏病有救了？哈工大13.5nm极紫外光源问世，未来可期！
另一方面，光刻机产业的门槛极高，不少半导体领域的专家都认为中国在光刻机技术上难以实现突破，就算取得突破，光刻机的稳定性、良率也很难得到保障。
墨史踏风客
13.5纳米极紫外光源：哈工大的突破与中芯国际的未来
近年来，随着科技的飞速发展，半导体产业的竞争愈发激烈，而光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其技术水平直接影响到芯片的生产效率和成品率。
细嗅蔷薇
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EUV光刻机事件反转？哈工大突破极紫外光源技术引外媒惊呼
近日，一则关于中国哈尔滨工业大学在极紫外光刻机光源技术方面取得重大突破的消息，不仅在国内科技界掀起了波澜，也让众多外媒纷纷侧目，甚至有人断言，EUV光刻机事件或许即将迎来反转。
离垢随笔
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国内突破13.5nm技术，台积电张忠谋被打脸了
随着国内突破13.5nm极紫外光源技术，让我们看到了中国半导体产业界的蓬勃发展，也让张忠谋面临着被打脸的局面。
互联鱼
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中国芯片崛起的关键一步？哈工大突破真能打破全球格局吗？
哈工大搞出了个大新闻，自主研发了13.5纳米极紫外光源技术!这下，咱们是不是离彻底解决芯片难题更近一步了?
80s兔闻录
EUV光刻机事件逆转信号！全球半导体行业震动
最近，一则消息引起了全球科技圈的震动——华为Mate70系列发布时，公开宣布该机型所有芯片都具备国产能力。
HⅩ
外媒报道：EUV光刻机事件反转，荷兰决定隐藏ASML对华销售情况
近年来，半导体领域格局风云变幻，中国在EUV光刻机技术上的突破与荷兰对ASML对华销售政策的调整，成为全球瞩目的焦点。
老叶热评
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西方技术封锁下的突破：中国半导体产业的自主崛起之路
面对西方严密的技术封锁与设备禁运，中国半导体产业以自主创新为矛，以产业链协同为盾，在逆境中实现了一系列关键技术突破，为“中国芯”的崛起写下了浓墨重彩的篇章。
北山青
荷兰决定不再公开ASML对华销售数据！这是荷兰的无奈与无声的抗议
美国对我国的技术打压政策愈演愈烈，尤其是在半导体领域，美国一再要求盟友限制对中国的技术出口。荷兰在美国政府的反复施压之下，不得已出台了所谓具有军事意义的“两用”商品清单，并重点关注ASML的深紫外光刻机先进设备出口必须申请许可，而极紫外光刻机更早之前已被列入了美国的管制。
务本堂杂谈
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最近，哈工大的曙光让ASML静默，中芯国际等一台国产EUV亮相
虽然美国、ASML和台积电保持沉默，但新加坡投资专家王国辉在媒体上对中芯国际表示看好，认为其具备与全球芯片巨头竞争的潜力。
谈古论今
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哈工大EUV光刻机突破!新加坡学者:只要成功，芯片战就会结束!
国产EUV光刻机取得重大突破，哈工大官宣表明已经成功解决13.5纳米极紫外光源的技术。距离哈工大攻克28纳米极紫外光源技术还没过去多久，12月30日，13.5纳米的极紫外光源就已经宣告研制成功了。
谱大酱
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华为Mate70系列国产芯崛起，国产EUV光刻机不再遥远？
华为Mate70系列发布了，说所有芯片都是国产的!这消息像个大炸弹，科技圈都炸开了。他们想不通，在封锁EUV光刻机等设备的情况下，华为等中国企业怎么进步这么大?
小明
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