2024年，当中国宣布在DUV光刻机领域取得突破性进展，成功研发出28纳米制程的光刻机时，整个科技界都为之震动，这项被誉为“现代工业皇冠上的明珠”的技术，一直以来都被西方国家牢牢掌握，成为制约中国芯片产业发展的一道难以逾越的鸿沟，如今，中国终于迈出了自主研发光刻机的关键一步，打破了西方的技术封锁，这对于中国乃至全球的科技格局都将产生深远的影响。
科技圈仿佛被投入了一颗震撼弹，爆炸中心正是中国光刻机技术的突破，消息一出，全球网友都炸开了锅，其中尤为活跃的，竟是来自印度的网友们，他们有的惊叹，有的焦虑，有的甚至开始自我调侃，仿佛这台光刻机就摆在他们家门口，比我们这些亲身经历的中国人还要激动。
印度网友这回倒是出人意料地理性，“虽然与ASML还有差距，但中国有自己量产光刻机，等于有加速迭代平台，”这话说得可真是一针见血，想想看，光刻机这玩意儿可不是小孩子积木，它就像是一台超级计算机，里面凝结人类智慧精华，中国现有这个平台，接下来发展可能就像是坐上火箭，嗖嗖往前冲。
“中国是全世界唯一能独立制造光刻机的国家，可笑的是，这还是在美国风suo下取得的成就”这一登场，可不得了，直接在半导体界投下了一颗震撼弹，不鸣则已，一鸣惊人”，咱中国这一出手，那可真是让全球科技大佬们都坐不住了。
9月9日，工信部网站发布了一条消息，虽然看起来很普通，但它就像一颗深水炸弹，让全球半导体行业都炸开了锅。最新发布的“重大技术装备推广应用指导目录”里，出现了“氟化氩光刻机”这个名字，而且明明白白地写着：“这是我们自主研发的，从无到有，实现了一项重大突破！
