表面等离子体 光刻的原理是当一束光射向介质 – 金属表面时， 金属表面的自由电子发生运动并产生表面感应电荷. 这些感应电荷在外加场的驱动下在表面不断振荡， 产生特殊的电磁波 ， 随着离开物质表面距离的增大迅速衰减. 表面等离子体波的波长被极大地压缩，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数. 因此， 利用表面等离子体波进行光刻时， 在极短的距离内 不受传统衍射极限的限制.
每经记者：朱成祥 每经编辑：董兴生全球半导体行业领先的供应商ASML于5月21日在上海举办年度人才战略分享会。ASML中国区人力资源总监毛琴提到，在ASML中国，既有工作了20多年的老员工，也有每年持续招进来的毕业生，从大专到本科、硕士、博士，新一代力量不断地扩充团队。
1 光刻机是半导体核心设备，目前主流光刻机分为 i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大类。一般芯片在生 产中需进行 20-30 次光刻，耗时占 IC 生产环节 50%左右，占芯片生产成本的 1/3。
每经记者：朱成祥 每经编辑：董兴生人才短缺，一直是国内芯片行业发展面临的一大问题。那么，光刻机龙头ASML又是如何在中国培养人才的呢？5月18日下午，ASML在上海举办人才战略分享活动，ASML中国区人力资源总监王洪瑞讲述了公司在人才培养上的经验。
每经编辑：吴永久粉丝朋友们，周三，光刻机、光刻胶概念涨幅居前，多只个股涨停。华为手机产业链继续大涨，捷荣技术6连板，华力创通20CM涨停。在每日经济新闻APP举办的掘金大赛第17期正式赛中，报名持续火热，本期报名截至周三24时，大家抓紧时间报名。
