工业和信息化部印发《首台重大技术装备推广应用指导目录》，其中特别强调了“集成电路生产装备”部分，明确列入了氟化氪光刻机与氟化氩光刻机两款关键设备，其中氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，能够支持28纳米工艺芯片的量产。
今天说一个好消息，中国的光刻机已经生产出来了。中国工信部的目录中公布了深蓝外光刻机，它加工的芯片尺寸小于等于八纳米。这尺寸就表明它应是最高端的光刻机了。其研究出来的速度超出所有人意料，也超出我意料。我原预判还得两三年，没想到现在就已成功。
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
近日，一则振奋人心的消息传来，国产光刻机取得了历史性突破，套刻精度达到了惊人的≤8nm级别。但是，你别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，那如果把最近发生的事情都联系起来，你就会发现，这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的一种回应，真的是让美国会很破防的那一种，那更重要的是这次公布的光刻机啊，还会进一步提升我国在汽车、家电等工业品的国际竞争力，那到底是咋回事呢?
9月9日，工业和信息化部官方通告印发《首台重大技术装备推广应用指导目录》，其中包括高端工业母机、集成电路生产装备、航空航天装备、高端医疗装备、精密仪器仪表等重大技术装备，目录所列皆是国之重器，事关我国的综合国力和国家安全。
