工业和信息化部印发《首台重大技术装备推广应用指导目录》，其中特别强调了“集成电路生产装备”部分，明确列入了氟化氪光刻机与氟化氩光刻机两款关键设备，其中氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，能够支持28纳米工艺芯片的量产。
然而，随着2024年9月工信部发布的一份文件，将国产光刻机再次推入了公众视野，特别是其中提到的氟化氩光刻机，其技术指标显示分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，这一消息无疑为国产光刻机的发展注入了一剂强心针。
近日，中国在半导体芯片领域创造了两项记录：一是量产了全球首款28nm内嵌RRAM画质调节芯片，二是研发出了世界首创的16位量子比特半导体微型处理器芯片。量产全球首款28nm内嵌RRAM画质调节芯片近日，我国显示类芯片达到新的半导体工艺高度。
9月20日，彭博社援引半导体专业分析机构TechInsights的报道称，美国于2022年10月限制先进半导体设备对华出口，并于2022年底将长江存储列入实体清单，2024年，长江存储成功进行了国产半导体设备的替代，并开始稳步发展。
