台媒评哈工大极紫外光源

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台湾报导：哈工大研发出13.5纳米极紫外光曝光机芯脏
「放电等离子体极紫外光刻光源」由哈尔滨工业大学航太学院的赵永鹏教授（左2）研发。中国哈尔滨工业大学日前在官方新闻网宣布，「放电等离子体极紫外光刻光源」两个项目获得获黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖。也就是被誉为「曝光机心脏」的极紫外（EUV）光源技术有了突破。
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13.5纳米极紫外光源：哈工大的突破与中芯国际的未来
近年来，随着科技的飞速发展，半导体产业的竞争愈发激烈，而光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其技术水平直接影响到芯片的生产效率和成品率。
细嗅蔷薇
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EUV光刻机事件反转？哈工大突破极紫外光源技术引外媒惊呼
近日，一则关于中国哈尔滨工业大学在极紫外光刻机光源技术方面取得重大突破的消息，不仅在国内科技界掀起了波澜，也让众多外媒纷纷侧目，甚至有人断言，EUV光刻机事件或许即将迎来反转。
离垢随笔
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中国芯突围！哈工大EUV光源技术突破，ASML垄断地位要凉？
哈尔滨工业大学在EUV光刻机的核心部件——极紫外光源技术上取得了重大突破!那么，哈工大的这项技术究竟有多厉害?
这个宇宙
哈工大国防之光，国外都瑟瑟发抖的存在
近日，哈工大航天学院赵永蓬教授带领的团队，凭借“放电等离子体极紫外光刻光源”项目，成功攻克了13.5纳米极紫外光源技术，在黑龙江省高校与科研院所职工科技创新成果转化大赛中荣获一等奖，这一重大突破犹如一声惊雷，震撼了全球半导体领域。
眼里充满希望
最近，哈工大的曙光让ASML静默，中芯国际等一台国产EUV亮相
虽然美国、ASML和台积电保持沉默，但新加坡投资专家王国辉在媒体上对中芯国际表示看好，认为其具备与全球芯片巨头竞争的潜力。
谈古论今
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哈工大EUV光刻机突破!新加坡学者:只要成功，芯片战就会结束!
国产EUV光刻机取得重大突破，哈工大官宣表明已经成功解决13.5纳米极紫外光源的技术。距离哈工大攻克28纳米极紫外光源技术还没过去多久，12月30日，13.5纳米的极紫外光源就已经宣告研制成功了。
谱大酱
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哈工大的曙光，让ASML沉默，中芯国际等一台国产EUV！
作为光刻机技术的核心环节之一，哈工大在极紫外光刻光源领域取得突破性进展，成功研发出13.5纳米的放电等离子体极紫外光源。
荣荣啦
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中国芯片崛起的关键一步？哈工大突破真能打破全球格局吗？
哈工大搞出了个大新闻，自主研发了13.5纳米极紫外光源技术!这下，咱们是不是离彻底解决芯片难题更近一步了?
80s兔闻录
外媒报道：EUV光刻机事件反转，荷兰决定隐藏ASML对华销售情况
近年来，半导体领域格局风云变幻，中国在EUV光刻机技术上的突破与荷兰对ASML对华销售政策的调整，成为全球瞩目的焦点。
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