专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
一直以来，光刻机是许多国人非常关注的话题，在中国关于光刻机的消息更是层出不穷，不管是与此相关的清华0.1nm技术也好，还是国内曝光的光刻厂技术也罢，都是咱们普通人无法理解的技术，可是如今好消息来了，中国光刻机不仅取得重大突破，而且此次技术还通俗易懂。
前几天，我们国家工信部才刚刚官宣了我国自主知识产权的国产氟化氩光刻机，这不，紧随其后，我国国家知识产权局，紧接着就又曝光了我国一项与EUV光刻机直接相关的重要发明专利——“极紫外辐射发生装置及光刻设备”发明专利。
