据广州产投、越海集成官微消息，4月16日，由广东微技术工业研究院（广东微技术研发中心有限公司，简称“广东工研院”）组织的“曝光时刻——3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂仪式在广州市增城区广东越海集成技术有限公司举行。
央广网北京6月28日消息（记者 齐智颖 实习生 李青逸）26日，上交所官网披露了关于终止对北京华卓精科科技股份有限公司（下称“华卓精科”）首次公开发行股票并在科创板上市审核的决定。这意味着，华卓精科始于2020年6月24日的四年科创板IPO之路，因发行人及保荐机构撤回申请而终止。
表面等离子体 光刻的原理是当一束光射向介质 – 金属表面时， 金属表面的自由电子发生运动并产生表面感应电荷. 这些感应电荷在外加场的驱动下在表面不断振荡， 产生特殊的电磁波 ， 随着离开物质表面距离的增大迅速衰减. 表面等离子体波的波长被极大地压缩，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数. 因此， 利用表面等离子体波进行光刻时， 在极短的距离内 不受传统衍射极限的限制.
导语: 向全世界宣布!富春江畔的浙江省投资50亿建设光刻机工厂，这正式宣布这是中国要拥有自己的光刻机产业。这项投资也昭示着我国在半导体领域正在迎头赶上，向国外展示出我们不甘落后的决心。尽管国外依旧是光刻机行业的主力军，但是“中国制造”正在崛起，就连ASML也开始慌了。
最近，科技圈被中科院成功研发出高分辨力的光刻机刷屏了。确实值得高兴，这是国人梦寐以求的设备。因为这是关系统到中国，能否自己生产出更高精度芯片的一个必要条件。都知道，现在三大主流芯片生产商intel、台积电、三星都拥有非常高规格的光刻机。对加工工艺要求高的芯片基本都于他们之间。
新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
