各位小伙伴都知道，现在在国际的舞台上有越来越多中国制造的身影，再加上我们的国家在经济上不断发展之后，我们的国家对于各个领域有了更多的投入，加大了对这些领域的财力、物力和人力的投入，这些原因使得我们的国家在某些领域有了很大的飞跃。
专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
如下图所示，这是光刻机类型，对应的芯片工艺。至于5nm芯片之后，那就必须使用EUV这种极紫外线光刻机了，用DUV光刻机已经制造不出来了，因为DUV光刻机的光线波长经水折射也也毕竟有134nm，波长太长，分辨率不够。
最近，科技圈被中科院成功研发出高分辨力的光刻机刷屏了。确实值得高兴，这是国人梦寐以求的设备。因为这是关系统到中国，能否自己生产出更高精度芯片的一个必要条件。都知道，现在三大主流芯片生产商intel、台积电、三星都拥有非常高规格的光刻机。对加工工艺要求高的芯片基本都于他们之间。
