一直以来，Jim(剑芒)博士都在拼命呼吁打击华为为首的中国科技自研创新，他给出的理由非常的可笑，而且无知！他的理由是：自研芯片，从科技发展的角度来说，本身就是一个错误的概念！按他这个观点，美国更多自研芯片，岂不是错上加错？你以为这是他可笑无知的极限？那你就大错特错了！
互联网时代，信息的快速传播为我们打开了了解世界、交流思想的窗口，同时也为各种隐蔽的操控手段提供了滋生的土壤，近年来，一种披着“客观”外衣，实则暗藏偏见的“捧杀”行为在网络空间悄然蔓延，对公众认知和社会共识造成严重危害，他们以看似理性的分析、中立的立场，实则通过选择性呈现信息、刻意放大问题、使用引导性语言等方式，潜移默化地影响公众判断，达到其不可告人的目的。
非常高兴看到@Jim博士 回应我的质疑，虽然你我都不是EUV光刻机行业从业者（至少我不是），但是咱们作为科技工作者，科技自媒体人，相信咱们对国产EUV研发路径的讨论，比挖资本家祖坟式的“考古”来的更有积极意义。好，客套话不多说，向读者展示博士的回复，然后再阐述自己的观点。
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表面等离子体 光刻的原理是当一束光射向介质 – 金属表面时， 金属表面的自由电子发生运动并产生表面感应电荷. 这些感应电荷在外加场的驱动下在表面不断振荡， 产生特殊的电磁波 ， 随着离开物质表面距离的增大迅速衰减. 表面等离子体波的波长被极大地压缩，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数. 因此， 利用表面等离子体波进行光刻时， 在极短的距离内 不受传统衍射极限的限制.
看到非官方消息，华为和中科院合作，研发出了8nm光刻机。下面分析消息的可信度和技术可能性。这种X射线光刻机的技术路线与ASML现有光刻机完全不同，如果相关技术问题能被解决，那么中国可以直接跨入下一代光刻机领域，光刻机将不再是制程提升的主要限制因素。
