前几天，我们国家工信部才刚刚官宣了我国自主知识产权的国产氟化氩光刻机，这不，紧随其后，我国国家知识产权局，紧接着就又曝光了我国一项与EUV光刻机直接相关的重要发明专利——“极紫外辐射发生装置及光刻设备”发明专利。
专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
在工信部推出全新国产DUV深紫外光刻机之后，中企又在EUV极紫外光刻技术上取得了突破，阿斯麦这家光刻机巨头的股价应声暴跌，整个半导体行业的格局似乎正在悄然改变。根据工信部提供的参数，这款 DUV 光刻机分辨率为 65 纳米以下，套刻精度为 8 纳米以下。
A股尾盘拉升，金融、地产等板块发力走高，多只沪深300ETF盘中放量，但两市成交额重返5000亿元下方。港股今日因假日休市。具体来看，沪指盘中一度下探失守2700点，尾盘在地产、银行等板块的带动下发力上扬，深证成指亦翻红。截至收盘，沪指涨0.49%报2717.
