专利申请总数截至 2019 年 6 月就有 3034 项，授权的也有 1654 项。虽说和 ASML 比，在制程精度和研发时间上还有差距，人家 ASML 都能生产 5nm 及以下制程节点的 EUV 光刻机了，上海微电子目前才做到 90nm 芯片量产。
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
从精致小巧的智能手表，到性能强劲的超级计算机，芯片如同跳动的心脏，驱动着科技的每一次进步，它看似微不足道，却掌控着信息时代的脉搏，而在这方寸之间，蕴藏着人类智慧的结晶，也浓缩着无数科研人员的心血，而要制造出这些精密的芯片，离不开一项关键技术——光刻，如果将芯片制造比作建造一座宏伟的城市，那么光刻机就是那支精密的刻刀，在纳米级的尺度上雕琢着电路的纹理。
我国高精尖企业华卓精科在2021年9月发布的公告中就提到:“公司 DWS 系列光刻机双工件台可实现优于 4.5nm 的运动平均偏差，已于 2020 年 4 月和 2021 年 1 月、4 月、6 月分别 向上海微电子发货 1 台 DWS 双工件台，累计发货 4 台 DWS 双工件台;
假期里自媒体谈得比较多的一个事件是:9月9日，工信部发布了《首台重大技术装备推广应用指导目录》，其中在电子专用装备目录下，“集成电路生产装备”包括氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
