在科技竞争日益激烈的今天，芯片产业作为信息技术的核心，一直是各国科技角力的焦点。近日，哈工大樊继壮教授带领的研发团队成功制备出了13.5nm的EUV光源，这一技术突破不仅打破了美西方在EUV光刻机领域的垄断地位，更为国产芯片产业链的自主化进程注入了强劲动力。
近日，哈工大航天学院赵永蓬教授带领的团队，凭借“放电等离子体极紫外光刻光源”项目，成功攻克了13.5纳米极紫外光源技术，在黑龙江省高校与科研院所职工科技创新成果转化大赛中荣获一等奖，这一重大突破犹如一声惊雷，震撼了全球半导体领域。
