科技浩瀚海洋中，每一次技术突破都像是一颗璀璨珍珠，让人们为之惊叹，我国工信部官方宣布，国内科研团队自主研发高端光刻机技术已经取得重大进展，这不仅是我国科技实力一个重要展示，更是推动半导体产业自主可控关键一步。
事情是这样的，荷兰政府前段时间突然宣布，要限制某种高科技设备的出口，这设备可不简单，它叫光刻机，是制造芯片的核心工具，没有它，再牛的芯片设计也造不出来，而荷兰在这方面可是妥妥的“大佬”，全球大部分高端光刻机都得从他们那儿进口。
近日，一则振奋人心的消息传来，国产光刻机取得了历史性突破，套刻精度达到了惊人的≤8nm级别。但是，你别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，那如果把最近发生的事情都联系起来，你就会发现，这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的一种回应，真的是让美国会很破防的那一种，那更重要的是这次公布的光刻机啊，还会进一步提升我国在汽车、家电等工业品的国际竞争力，那到底是咋回事呢?
这可不是商家单纯在搞神秘操作，而是涉及到了我们现代生活中关键的“神秘力量”——芯片，说到芯片，我们不得不提到一个重要的设备，那就是光刻机，别看名字单简单的，光刻机可是制造芯片的核心利器，是整个芯片生产流程的重头戏，正因如此，光刻机的技术发展对一个国家的科技实力和经济发展至关重要。
，一场没有硝烟的战争，正悄然改变着全球科技格局，这场战争的主角，不是荷枪实弹的士兵，而是肉眼难以辨识的芯片，以及制造芯片的关键利器——光刻机，中国，这个曾经在芯片领域受制于人的东方大国，如今，凭借自主研发的DUV光刻机，吹响了冲锋的号角。
中国芯，中国造：一场从“不可能”到“现实”的技术突围“中国不可能造出光刻机！”，“给你们图纸也白搭！”，“中美技术差距至少100年！”这些年，类似的论调，我们听过太多。美国，这个曾经断言中国造不出原子弹的国家，如今又将同样的傲慢和偏见，投射到了中国的光刻机技术上。
导语: 向全世界宣布!富春江畔的浙江省投资50亿建设光刻机工厂，这正式宣布这是中国要拥有自己的光刻机产业。这项投资也昭示着我国在半导体领域正在迎头赶上，向国外展示出我们不甘落后的决心。尽管国外依旧是光刻机行业的主力军，但是“中国制造”正在崛起，就连ASML也开始慌了。
公司与全球光刻机巨头建立了紧密的合作关系，自 2006 年开始建立合作，2010 年产品导入量产，与其签订框架性合同的同时建立了 MEMS 芯片代工生产、从 6 英寸转移到8 英寸的技术开发订单，成为该公司高端光刻机微镜的主要供应商。
最近，科技圈被中科院成功研发出高分辨力的光刻机刷屏了。确实值得高兴，这是国人梦寐以求的设备。因为这是关系统到中国，能否自己生产出更高精度芯片的一个必要条件。都知道，现在三大主流芯片生产商intel、台积电、三星都拥有非常高规格的光刻机。对加工工艺要求高的芯片基本都于他们之间。
新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
