每经记者：朱成祥 每经编辑：梁枭9月9日，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。
工信部的一份文件，将国产光刻机研发再度推入公众的视线。尽管上证指数在过去一周承压，但A股的光刻机板块上涨了近5%，成为近期表现比较亮眼的一个板块。仅9月18日当天，光刻机概念板块就上涨了5.35%，领涨A股所有概念板块。
大家有所不知，就在荷兰宣布这个消息的几乎中国这边也quietly放出了两条重磅消息，迅速引爆了国内科技圈，这两条消息都和光刻机有关，而光刻机，正是芯片制造中最关键、最核心的设备，可以说，它代表着芯片制造的最高工艺水平，谁掌握了它，谁就掌握了芯片制造的主动权。
在工信部推出全新国产DUV深紫外光刻机之后，中企又在EUV极紫外光刻技术上取得了突破，阿斯麦这家光刻机巨头的股价应声暴跌，整个半导体行业的格局似乎正在悄然改变。根据工信部提供的参数，这款 DUV 光刻机分辨率为 65 纳米以下，套刻精度为 8 纳米以下。
9月9日，工信部网站发布了一条消息，虽然看起来很普通，但它就像一颗深水炸弹，让全球半导体行业都炸开了锅。最新发布的“重大技术装备推广应用指导目录”里，出现了“氟化氩光刻机”这个名字，而且明明白白地写着：“这是我们自主研发的，从无到有，实现了一项重大突破！
