4月18日，美国芯片公司英特尔宣布，其代工厂已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机。据介绍，这套重达165吨的设备是阿斯麦（ASML）与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备，现位于俄勒冈州的D1X制造工厂，正在进行最后的校准。
它可是芯片生产的“心脏”，没有它，咱们现在的智能手机、电脑根本没法生产!近年来，随着5G、人工智能等技术的迅速发展，全球半导体产业也迎来了飞速发展，而作为半导体产业链中最为重要的技术之一，光刻机也被越来越多的人所关注。
导语: 向全世界宣布!富春江畔的浙江省投资50亿建设光刻机工厂，这正式宣布这是中国要拥有自己的光刻机产业。这项投资也昭示着我国在半导体领域正在迎头赶上，向国外展示出我们不甘落后的决心。尽管国外依旧是光刻机行业的主力军，但是“中国制造”正在崛起，就连ASML也开始慌了。
每经记者：朱成祥 每经编辑：陈俊杰10月15日，阿斯麦（ASML）发布2024年第三季度财报。该季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为50.8%，净利润达21亿欧元。今年第三季度的新增订单金额为26亿欧元，其中14亿欧元为EUV光刻机订单。
新华社成都11月29日电（记者董瑞丰、吴晓颖）国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
最近，科技圈被中科院成功研发出高分辨力的光刻机刷屏了。确实值得高兴，这是国人梦寐以求的设备。因为这是关系统到中国，能否自己生产出更高精度芯片的一个必要条件。都知道，现在三大主流芯片生产商intel、台积电、三星都拥有非常高规格的光刻机。对加工工艺要求高的芯片基本都于他们之间。
