##记录我的9月生活#逆风飞扬：中国芯的自立自强之路芯片禁令就像一块大石头，压在咱们科技进步的路上，压力可不小。老美联合荷兰，对中国半导体产业的围堵封锁越来越过分，前段时间更是不讲武德，直接把部分机器的维修零件和软件更新都给禁了。这分明是要掐断中国芯片的未来。这口气，我们能忍？
前几天，我们国家工信部才刚刚官宣了我国自主知识产权的国产氟化氩光刻机，这不，紧随其后，我国国家知识产权局，紧接着就又曝光了我国一项与EUV光刻机直接相关的重要发明专利——“极紫外辐射发生装置及光刻设备”发明专利。
每经记者：朱成祥 每经编辑：梁枭近期，工信微报微信公众号发文披露《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。
在工信部推出全新国产DUV深紫外光刻机之后，中企又在EUV极紫外光刻技术上取得了突破，阿斯麦这家光刻机巨头的股价应声暴跌，整个半导体行业的格局似乎正在悄然改变。根据工信部提供的参数，这款 DUV 光刻机分辨率为 65 纳米以下，套刻精度为 8 纳米以下。
大家有所不知，就在荷兰宣布这个消息的几乎中国这边也quietly放出了两条重磅消息，迅速引爆了国内科技圈，这两条消息都和光刻机有关，而光刻机，正是芯片制造中最关键、最核心的设备，可以说，它代表着芯片制造的最高工艺水平，谁掌握了它，谁就掌握了芯片制造的主动权。
