1月16日消息,根据韩国媒体引用市场人士的说法报道指出,SK海力士计划将中国无锡工厂一部分的C2晶圆厂产能,提升至采用10nm级的第四代DRAM制程技术,以为了接下来因应市场的需求进行扩产做准备。目前,中国无锡工厂是SK海力士最主要的海外生产基地,其产能约占SK海力士DRAM总产量的40%。
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备,我国光刻机设备国产化率基本为零,几乎完全来自进口,而荷兰掌握着世界最先进的光刻机技术,也是我国第一大进口来源国,其宣布光刻机禁令对我国半导体产业无疑是一个重大挑战。
在美国围堵中国大陆半导体产业发展的过程中,设备扮演着关键角色。当地时间11月18日,路透社援引知情人士的话报道称,韩国企业SK海力士无锡工厂的升级改造计划面临危险,因为美国官员不允许阿斯麦EUV进入中国大陆,SK海力士原本希望通过该设备提高存储芯片的生产效率。
文/小野传说编辑/小野传说前言荷兰ASML顶住美国压力,派出光刻机巨头在无锡建厂,预计投资60亿美元,或将帮中国打破美国芯片封锁。光刻机巨头无锡建厂美国为阻挠我国芯片行业发展,授意日本停止向我国出口芯片和光刻机,日本毫不犹豫地追随美国,和我国断绝相关领域的往来。