阅读此文前，诚邀您点击一下“关注”按钮，方便以后第一时间为您推送新的文章，同时也便于您进行讨论与分享，您的支持是我坚持创作的动力~文|硬核科普家编辑|硬核科普家《——【·前言·】——》在全球芯片产业的激烈竞争中，光刻机一直被视为最核心、最复杂的技术壁垒。
在阅读此文之前，麻烦您点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持。文|科技新知分享家编辑|科技新知分享家导语在科技飞速发展的今天，光刻技术的进步与否直接影响着半导体行业的未来。
中微公司在2023年年报中明确表示:“公司在过去的近20年着力开发了一个完整系列的 15 种等离子体刻蚀设备，公司的 CCP 电容性高能等离子体刻蚀机和ICP电感性低能等离子体刻蚀机可以覆盖国内 95% 以上的刻蚀应用需求。”
