现在的商用半导体领域，有可能连未来微观领域的研究人员都没有料到的新技术，都在寻找着自己的实践道路。从材料的使用研究，到元器件的研究，再到芯片生产的研究，每一个领域都被专业人士们深入的钻研着，为了这个科研领域做出贡献。
4月上旬，全球光刻机龙头企业ASML发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E，该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径，旨在满足未来几年对于尖端技术芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸节点。
众所周知，在目前的技术下，制造7nm以下的芯片，必须使用EUV光刻机。而全球仅ASML一家能够制造出EUV光刻机，而2022年，全球一共出货40台EUV光刻机，而截止至2022年底，ASML一共出货182台。
近日，一则振奋人心的消息传来，国产光刻机取得了历史性突破，套刻精度达到了惊人的≤8nm级别。但是，你别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，那如果把最近发生的事情都联系起来，你就会发现，这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的一种回应，真的是让美国会很破防的那一种，那更重要的是这次公布的光刻机啊，还会进一步提升我国在汽车、家电等工业品的国际竞争力，那到底是咋回事呢?
