来源：环球网 【环球网科技综合报道】8月13日，据“光谷实验室”消息，近日，湖北光谷实验室传来好消息，该实验室与华中科技大学集成电路学院、光电子器件与三维集成团队以及广纳珈源（广州）科技有限公司合作，成功研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR）。
记者最新从复旦大学获悉，复旦大学高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室魏大程团队设计了一种新型半导体性光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，在聚合物半导体芯片的集成度上实现新突破，集成度达到特大规模集成度水平。
记者8日从复旦大学获悉，该校高分子科学系、聚合物分子工程国家重点实验室魏大程研究员带领团队设计出一种功能型光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，集成度达到特大规模水平。该成果发表于最新一期《自然·纳米技术》上。
最近国内光刻胶领域可谓是好事连连。市场方面，南大光电、彤程新材实现了ArF光刻胶的量产，不少相关公司股价也是接连上涨。技术上，华中科技大学与湖北九峰山实验室共同研究的新型光刻胶技术成功为我国EUV光刻胶的开发奠定了技术基础，这也间接推动了我国芯片产业的发展。
利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现互连。而有机芯片，由聚合物半导体、共轭小分子等有机材料制成，具有本征柔性、生物相容性、成本低廉等优势，在可穿戴电子设备、生物电子器件等新兴领域具有重要应用前景。
齐鲁网·闪电新闻7月28日讯 重点产业快速发展，人才是关键。搭建高级研发平台是实现人才力量集中、投入集中、产出集中的有效途径。潍坊市坊子区积极与高校、科研院所展开合作，优化“招才引智”环境，加速科研成果转化，助力高质量发展。
