近年来，特别是2019年以来，荷兰政府等西方国家开始加强对向中国出口高端光刻机的限制。2021年1月，荷兰政府要求ASML停止向中国出口其最新的DUV光刻机。2024年，ASML被进一步限制，不得向中国发运NXT:2000i及以上分辨率的浸润式DUV光刻机。
光刻机到目前为止，共经历了五代发展，从最早的第一代436波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 DUV 激光，这就是 ArF 准分子激光。
全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平?说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。
中国光刻机在近年来取得了显著的进展，2022年中国光刻机市场规模为147.82亿元，2023年中国光刻机产量达124台，市场规模已突破160.87亿元。市场现状需求与供给：国内对光刻机的需求大于国产供给，2022年产量为95台，而需求量约为652台。
近日，一则振奋人心的消息传来，国产光刻机取得了历史性突破，套刻精度达到了惊人的≤8nm级别。但是，你别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，那如果把最近发生的事情都联系起来，你就会发现，这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的一种回应，真的是让美国会很破防的那一种，那更重要的是这次公布的光刻机啊，还会进一步提升我国在汽车、家电等工业品的国际竞争力，那到底是咋回事呢?
