表面等离子体 光刻的原理是当一束光射向介质 – 金属表面时， 金属表面的自由电子发生运动并产生表面感应电荷. 这些感应电荷在外加场的驱动下在表面不断振荡， 产生特殊的电磁波 ， 随着离开物质表面距离的增大迅速衰减. 表面等离子体波的波长被极大地压缩，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数. 因此， 利用表面等离子体波进行光刻时， 在极短的距离内 不受传统衍射极限的限制.
开源证券近日发布机械设备行业周报：科技自立打头阵，重视光刻机产业链国产化机遇。 以下为研究报告摘要： 光刻机：推动芯片晶体管尺寸微细化发展的核心设备光刻是芯片制造流程中极为重要、难度极高的关键步骤。光刻的过程就是光透过掩膜版成像在晶圆表面的光刻胶上，一片晶圆可曝光多达百个单元。
因业绩未及市场预期，光刻机巨头阿斯麦（ASML）美股ADR10月15日股价下跌16.3%，创下了自1998年以来单日最大跌幅。当地时间10月15日，ASML发布的2024年第三季度财报显示。2024年第三季度，ASML实现净销售额75亿欧元，毛利率为50.
